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产品简介
全自动RCA清洗机
1): 采用典型、普遍的湿法清洗方法,使硅片清洗的更彻底;
2): 适用于6-12”晶圆的刻蚀清洗;
3): 适用于半导体、第三代半导体(碳化硅)等领域;
4): 全自动控制,可选择自动配/补液,保证设备的安全稳定性;
5): 高速移载机械手,伺服驱动控制,保证设备运行平稳,定位可靠;
6): 在线式甩干,保证清洗的洁净度;
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